イノベーション・ジャパン2018 ~大学見本市&ビジネスマッチング~
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開催2018年8月30日 (木)~31日 (金)
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高知工科大学 システム工学群 機械系

川原村 敏幸 准教授

大気開放系プロセスによる量子デバイスの新規作製手法

ナノテクノロジー
小間 N-31

Kochi University of Technology Associate Professor Toshiyuki Kawaharamura

Novel Fabrication Technique of Quantum Devices by Open-Air Atmospheric Pressure Process

9 産業と技術革新の 基盤をつくろう
出展ゾーン
大学等シーズ展示ゾーン
出展分野
ナノテクノロジー
小間番号
N-31

展示概要

技術概要
我々の身の回りに溢れる電子デバイスの作製には真空プロセスが利用されている。しかし真空を維持するため少なくとも22%ものエネルギーが消費されている。つまり真空を必要としない技術に転換することができれば環境負荷を劇的に減らせる。そこで申請者は大気開放系で均質かつ高品質な機能薄膜を作製するための技術「ミスト化学気相成長(CVD)法」の開発を行ってきた。本展示ではミストCVD法による量子デバイスの作製に関して報告する。ミストCVD法のような大気開放系プロセスでの量子デバイス作製は従来にないまさに革新的なアプローチである。

想定される活用例
・高輝度大面積発光ダイオード(レーザー)
・太陽電池・燃料電池・蓄電池など電池関連技術
・量子デバイス関連技術

 

展示のみどころ
ミストCVD法の原料供給器(UMG-2014-01-3b-A4)を展示いたします。UMG-2014-01-3b-A4は、搬送及び収納し易いように、A4サイズとしている他、応用展開を可能とした仕様となっております。
他:ポスターパネルによる技術の紹介。

お問い合わせ先

高知工科大学 研究連携部研究連携課

電話:0887-57-2025   FAX:0887-57-2026  

URL:https://www.kochi-tech.ac.jp/index.html

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